JCP-200单靶小型磁控溅射镀膜机

北京泰科诺科技有限公司

该系列设备标配1只圆形平面靶（预留1对蒸发电极，能够溅射/蒸发两用），主要用来开发纳米级导电膜（含铁、镍、钴等磁性材料）、介质膜、半导体薄膜以及电镜制样等。

真空腔室尺寸： Φ200×H300mm

极限真空： 优于8.0×10-5Pa（如需更高真空度可配进口真空泵组）

基片台尺寸： Φ100mm

基片烘烤温度： 室温～400℃，可调可控（PID控温）

溅射靶/蒸发电极： Φ2英寸靶1支，预留1组蒸发接口

三靶磁控溅射镀膜机

美国Perkin Elmer model 4400是制备各种薄膜的专用设备。该设备采用射频磁控溅射，设有双真空室，可以批量生产纳米级导电膜、半导体膜、陶瓷膜以及镍、钴磁性材料等，基片台加负偏压可实现基片反溅清洗功能。